涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套运用的涂胶、烘烤及显影设备，包括涂胶机、喷胶机(适用于不规则外表晶圆的光刻胶涂覆)和显影机；且作为光刻工艺中的中心设备，分类方法很多。依据工艺的不同能够被分为前道和后道涂胶显影设备，前者大多数都用在晶圆制作的前道工艺中，而后者是在封测工艺中运用。2020年我国（包括我国台湾地区）涂胶显影设备商场规模为8.14亿美元；估计在2023年将到达11.07亿美元，年均复合增长率达11%。涂胶显影设备职业竞赛格式安定，国外厂商高度独占。在涂胶显影设备职业，全世界内日本东京电子（TEL）别出心裁，处于肯定抢先的优势。国产代替方面，芯源微完成小批量代替，盛美上海、众鸿电子进军商场，但全体看来仍具有很大的距离。